あいさつ
平素より格別のご高配をいただき厚く御礼申し上げます。
AGCセイミケミカルは、創業後70年を超える歴史の中で、無機・有機を問わず、特色ある技術を生かした様々な製品をお客様に提供してまいりました。当社の製品はクロロメチルスチレン、燃料電池材料、研磨剤、表面改質剤など多岐にわたり、次世代通信、半導体、エレクトロニクス、エネルギー、自動車などの幅広い産業分野で利用されています。
AGCグループの一員である当社は、「化学で未来を支える」という私たちの使命を果たすべく、これまで培ってきた合成技術・プロセス技術を基に、AIやデジタルトランスフォーメーション（DX）などの新しい産業分野の発展に貢献し、また、気候変動問題等の持続可能な社会の実現などの社会課題にも取り組んでまいります。
今後とも皆様の一層のご指導、ご愛顧を賜りますようお願い申し上げます。
AGCセイミケミカル株式会社
代表取締役社長 諏訪部 幸治
会社概要
| 創立 | 1947年12月18日 |
|---|---|
| 資本金 | 4億5千万円 |
| 役員 | 代表取締役社長 諏訪部幸治 取締役 村山 貴之 取締役 木村 貴志 取締役 木下 健史 取締役 後藤 道隆 取締役 小林 忍 取締役 田頭 理 監査役 高野 憲博 監査役 笹川 大介 |
| 従業員 | 368名 |
| 関連会社 | 包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司（中国） |
| 主要取引銀行 | 三菱UFJ銀行（茅ヶ崎） |
| 株主 | AGC株式会社（100％） |
2024年3月28日現在
沿革
| 2019年 | 関連会社 東陽株式会社吸収合併（7月1日） |
|---|---|
| 2017年 | 創立70周年 |
| 2016年 | Rf事業推進部発足 |
| 2014年 | リチウムイオン二次電池正極材料（セリオン®）製造終了、関係会社清美通達鋰能科技（無錫）有限公司売却 |
| 2012年 | 中国に関係会社清美通達鋰能科技（無錫）有限公司設立 |
| 2011年 | SOFC材料製造開始、関係会社包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司 新工場稼働開始 |
| 2008年 | 関係会社台湾清美興業股份有限公司清算 |
| 2007年 | 創立60周年 セイミビジョンスタート 社名をAGCセイミケミカル（株）に変更 |
| 2006年 | ファミリーフレンドリー企業神奈川労働局長賞受賞 |
| 2005年 | セイミビジョン2005発表 社是「創造と進化」制定 CMP事業をAGCの半導体関連事業に統合 |
| 2004年 | ISO14001認証取得 （本社・茅ヶ崎工場、鹿島工場） 半導体銅配線プロセス向けスラリー CLシリーズ製造開始 |
| 2003年 | ISO9001認証取得 （本社・茅ヶ崎工場、鹿島工場） リチウムイオン二次電池正極剤（セリオン®L）製造開始 |
| 2002年 | 半導体酸化膜研磨用スラリー CES-300シリーズ製造開始 リチウムイオン二次電池正極剤（セリオン®C）鹿島プラント稼動 |
| 2000年 | クロロメチルスチレン新プラント稼動（鹿島工場） 神奈川労働局長 努力賞受賞（労働衛生水準の向上） |
| 1998年 | ISO9002認証取得 リチウムイオン二次電池正極材料（セリオン®）製造開始（Ni系） |
| 1997年 | 創立50周年 社是「創造」制定 神奈川工業技術開発大賞受賞（DFS系液晶） |
| 1996年 | 神奈川県環境保全協議会より「公害防止自主規制優良工場」受賞 |
| 1995年 | リチウムイオン二次電池正極材料（セリオン®）製造開始（Co系） ジフルオロスチルベン（DFS）系液晶製造開始 試薬苛性製造開始 関係会社包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司設立 |
| 1993年 | 半導体CMPプロセス向けの研磨剤スラリーの製造開始 |
| 1992年 | 鹿島工場稼働開始 |
| 1991年 | 足立工場を鹿嶋市に移転、足立工場閉鎖 |
| 1990年 | 茨城県鹿嶋市に新工場用地132,000m2取得 |
| 1989年 | 関係会社台湾清美興業股份有限公司設立 |
| 1984年 | 旭硝子（株）の関連会社（株）アスニーと合併、社名をセイミケミカル（株）に変更 |
| 1983年 | 医農薬中間体製造開始 |
| 1982年 | 耐候性塗料（ルミフロン®）製造開始 |
| 1981年 | 東京営業所開設 フッ素系表面処理剤（エスエフコート®）製造開始 |
| 1979年 | フッ素系界面活性剤（サーフロン®）製造開始 |
| 1978年 | 液晶製造開始 |
| 1968年 | 高機能高分子モノマー（クロロメチルスチレン）製造開始 |
| 1964年 | 機能性ガスの混合充填を開始 |
| 1960年 | 茅ヶ崎市に本社・工場を移転 |
| 1958年 | 硝子研磨剤の製造開始 |
| 1951年 | 東京下丸子に工場移転 |
| 1947年 | 合成香料クマリンの国産化のため旭硝子（株）の全額出資により東京都原宿に清美化学（株）設立 |
社名の由来
江戸時代末期に「化学」が伝来したとき、化学を意味するオランダ語CHEMIE［シャミ］が「舎密」と日本語に当てられました。この「舎密」が香料を製造する会社にふさわしい「清美」に変化し、「セイミ」となって現在に至っています。
事業所インデックス
本社・茅ヶ崎工場
| 所在地 | 〒253-8585 |
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鹿島工場
| 所在地 | 〒314-0012 茨城県鹿嶋市大字平井字灘2276番2 |
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包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司
| 所在地 | 中華人民共和国内蒙古自治区包頭市 | |
|---|---|---|
| 創立 | 1995年12月29日 | |
| 出資 | 日本側 | AGCセイミケミカル株式会社 |
| 中国側 | 中国北方稀土（集団）高科技股份有限公司 | |
| 生産品 | ガラス研磨剤 （研磨対象物：フォトマスク基板・ガラスハードディスク基板・表示デバイス・光学レンズ・各種ベベリング・板硝子等） |
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