COMPANY会社案内

あいさつ

 AGCセイミケミカルは1947年の創業以来、AGCグループの一員としてファインケミカルの研究開発に力を入れ、無機・有機を問わず、特色のある技術や製品を次々と生み出して参りました。そして現在、当社の製品は界面活性剤などの各種添加剤・表面改質剤・燃料電池材料・機能性モノマー・研磨剤などニッチではありますが生産工程でのキーマテリアルとして、エレクトロニクス・エネルギー・自動車などの幅広い分野でご使用いただくまでに至っております。

 さて、昨今、IT・IoT・AIなどに代表されるように、デジタル化の加速は目覚ましいものがあります。その実現のためには高性能ICチップや基板材料などが必須で、さらにそれらを支えるために、より高度な材料技術が求められてきております。当社はこれらのニーズに応えるべく技術開発を重ね、他社とは一味違う機能性材料を提供して参ります。また、そこで培われた合成技術・プロセス技術を活かし、開発から製造までの受託事業を手掛けて参る所存です。

 これらのことから、社是である「創造と進化」を原点としながら『化学で未来を支える』を企業理念としてかかげ、産業発展と持続可能な社会の実現に、絶えず貢献していきたいと考えております。

 今後とも皆様の一層のご指導、ご愛顧を賜りますようお願い申し上げます。

AGCセイミケミカル株式会社
代表取締役社長   有山 保彦

会社概要

創立 1947年12月18日
資本金 4億5千万円
役員 代表取締役社長 有山 保彦
取締役     河田 禎史
取締役     木村 貴志
取締役     金  喜則
取締役     小野 裕朗
取締役     木下 健史
取締役     後藤 道隆
監査役     古川 孝則
監査役     小野 光史
従業員 318名
関連会社 包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司(中国)
主要取引銀行 三菱UFJ銀行(茅ヶ崎)
株主 AGC株式会社(100%)

2021年5月21日現在

沿革

2019年 関連会社 東陽株式会社吸収合併(7月1日)
2017年 創立70周年
2016年 Rf事業推進部発足
2014年 リチウムイオン二次電池正極材料(セリオン®)製造終了、関係会社清美通達鋰能科技(無錫)有限公司売却
2012年 中国に関係会社清美通達鋰能科技(無錫)有限公司設立
2011年 SOFC材料製造開始、関係会社包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司 新工場稼働開始
2008年 関係会社台湾清美興業股份有限公司清算
2007年 創立60周年 セイミビジョンスタート
社名をAGCセイミケミカル(株)に変更
2006年 ファミリーフレンドリー企業神奈川労働局長賞受賞
2005年 セイミビジョン2005発表 社是「創造と進化」制定
CMP事業をAGCの半導体関連事業に統合
2004年 ISO14001認証取得
(本社・茅ヶ崎工場、鹿島工場)
半導体銅配線プロセス向けスラリー CLシリーズ製造開始
2003年 ISO9001認証取得
(本社・茅ヶ崎工場、鹿島工場)
リチウムイオン二次電池正極剤(セリオン®L)製造開始
2002年 半導体酸化膜研磨用スラリー CES-300シリーズ製造開始
リチウムイオン二次電池正極剤(セリオン®C)鹿島プラント稼動
2000年 クロロメチルスチレン新プラント稼動(鹿島工場)
神奈川労働局長 努力賞受賞(労働衛生水準の向上)
1998年 ISO9002認証取得
リチウムイオン二次電池正極材料(セリオン®)製造開始(Ni系)
1997年 創立50周年
社是「創造」制定
神奈川工業技術開発大賞受賞(DFS系液晶)
1996年 神奈川県環境保全協議会より「公害防止自主規制優良工場」受賞
1995年 リチウムイオン二次電池正極材料(セリオン®)製造開始(Co系)
ジフルオロスチルベン(DFS)系液晶製造開始
試薬苛性製造開始
関係会社包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司設立
1993年 半導体CMPプロセス向けの研磨剤スラリーの製造開始
1992年 鹿島工場稼働開始
1991年 足立工場を鹿嶋市に移転、足立工場閉鎖
1990年 茨城県鹿嶋市に新工場用地132,000m2取得
1989年 関係会社台湾清美興業股份有限公司設立
1984年 旭硝子(株)の関連会社(株)アスニーと合併、社名をセイミケミカル(株)に変更
1983年 医農薬中間体製造開始
1982年 耐候性塗料(ルミフロン®)製造開始
1981年 東京営業所開設
フッ素系表面処理剤(エスエフコート®)製造開始
1979年 フッ素系界面活性剤(サーフロン®)製造開始
1978年 液晶製造開始
1968年 高機能高分子モノマー(クロロメチルスチレン)製造開始
1964年 機能性ガスの混合充填を開始
1960年 茅ヶ崎市に本社・工場を移転
1958年 硝子研磨剤の製造開始
1951年 東京下丸子に工場移転
1947年 合成香料クマリンの国産化のため旭硝子(株)の全額出資により東京都原宿に清美化学(株)設立

社名の由来

江戸時代末期に「化学」が伝来したとき、化学を意味するオランダ語CHEMIE[シャミ]が「舎密」と日本語に当てられました。この「舎密」が香料を製造する会社にふさわしい「清美」に変化し、「セイミ」となって現在に至っています。

事業所インデックス

本社・茅ヶ崎工場

所在地

〒253-8585
神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎3丁目2番10号

鹿島工場

所在地 〒314-0012
茨城県鹿嶋市大字平井字灘2276番2

包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司

所在地 中華人民共和国内蒙古自治区包頭市
創立 1995年12月29日
出資 日本側 AGCセイミケミカル株式会社
中国側 中国北方稀土(集団)高科技股份有限公司
生産品 ガラス研磨剤
(研磨対象物:フォトマスク基板・ガラスハードディスク基板・表示デバイス・光学レンズ・各種ベベリング・板硝子等)