沿革 | AGC セイミケミカル

2011年	関係会社包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司新工場稼働開始
2007年	創立60周年セイミビジョンスタート社名をAGCセイミケミカル（株）に変更
2006年	ファミリーフレンドリー企業神奈川労働局長賞受賞
2005年	セイミビジョン2005発表　社是「創造と進化」制定 CMP事業をAGCの半導体関連事業に統合
2004年	ISO14001認証取得（本社・茅ヶ崎工場、鹿島工場）半導体銅配線プロセス向けスラリー　CLシリーズ製造開始
2003年	ISO9001認証取得（本社・茅ヶ崎工場、鹿島工場）リチウムイオン2次電池正極剤（セリオンL）製造開始
2002年	半導体酸化膜研磨用スラリー　CES-300シリーズ製造開始リチウムイオン2次電池正極剤（セリオンC）鹿島プラント稼動
2000年	クロルメチルスチレン新プラント稼動（鹿島工場）神奈川労働局長　努力賞受賞（労働衛生水準の向上）
1998年	ISO9002認証取得リチウムイオン二次電池正極材料（セリオン）製造開始（ni系）
1997年	創立50周年社是「創造」制定神奈川工業技術開発大賞受賞（dfs系液晶）
1996年	神奈川県環境保全協議会より「公害防止自主規制優良工場」受賞
1995年	リチウムイオン二次電池正極材料（セリオン）製造開始（co系）ジフルオロスチルベン（dfs）系液晶製造開始試薬苛性製造開始関係会社包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司設立
1993年	半導体CMPプロセス向けの研磨剤スラリーの製造開始
1992年	鹿島工場稼働開始
1991年	足立工場を鹿嶋市に移転、足立工場閉鎖
1990年	茨城県鹿嶋市に新工場用地132,000m²取得
1989年	関係会社台湾清美興業股有限公司設立
1984年	旭硝子（株）の関連会社（株）アスニーと合併、社名をセイミケミカル（株）に変更
1983年	医農薬中間体製造開始
1982年	耐候性塗料（ルミフロン）製造開始
1981年	東京営業所開設フッ素系表面処理剤（SFコート）製造開始
1979年	フッ素系界面活性剤（サーフロン）製造開始
1978年	液晶製造開始
1968年	高機能高分子モノマー（クロルメチルスチレン）製造開始
1964年	機能性ガスの混合充填を開始
1960年	茅ヶ崎市に本社・工場を移転
1958年	硝子研磨剤の製造開始
1951年	東京下丸子に工場移転
1947年	合成香料クマリンの国産化のため旭硝子（株）の全額出資により東京都原宿に清美化学（株）設立

江戸時代末期に「化学」が伝来したとき、化学を意味するオランダ語CHEMIE［シャミ］が「舎密」と日本語に当てられました。この「舎密」が香料を製造する会社にふさわしい「清美」に変化し、「セイミ」となって現在に至っています。

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