COMPANY会社案内

あいさつ

 平素より格別のご高配をいただき厚く御礼申し上げます。

 AGCセイミケミカルは、創業後70年を超える歴史の中で、無機・有機を問わず、特色ある技術を生かした様々な製品をお客様に提供してまいりました。当社の製品はクロロメチルスチレン、燃料電池材料、研磨剤、表面改質剤など多岐にわたり、次世代通信、半導体、エレクトロニクス、エネルギー、自動車などの幅広い産業分野で利用されています。

 AGCグループの一員である当社は、「化学で未来を支える」という私たちの使命を果たすべく、これまで培ってきた合成技術・プロセス技術を基に、AIやデジタルトランスフォーメーション(DX)などの新しい産業分野の発展に貢献し、また、気候変動問題等の持続可能な社会の実現などの社会課題にも取り組んでまいります。

 今後とも皆様の一層のご指導、ご愛顧を賜りますようお願い申し上げます。

AGCセイミケミカル株式会社
代表取締役社長   諏訪部 幸治

会社概要

創立 1947年12月18日
資本金 4億5千万円
役員 代表取締役社長 諏訪部幸治
取締役     村山 貴之
取締役     木村 貴志
取締役     木下 健史
取締役     後藤 道隆
取締役     小林  忍
取締役     田頭  理
監査役     高野 憲博
監査役     成田 裕二
従業員 368名
関連会社 包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司(中国)
主要取引銀行 三菱UFJ銀行(茅ヶ崎)
株主 AGC株式会社(100%)

2023年12月21日現在

沿革

2019年 関連会社 東陽株式会社吸収合併(7月1日)
2017年 創立70周年
2016年 Rf事業推進部発足
2014年 リチウムイオン二次電池正極材料(セリオン®)製造終了、関係会社清美通達鋰能科技(無錫)有限公司売却
2012年 中国に関係会社清美通達鋰能科技(無錫)有限公司設立
2011年 SOFC材料製造開始、関係会社包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司 新工場稼働開始
2008年 関係会社台湾清美興業股份有限公司清算
2007年 創立60周年 セイミビジョンスタート
社名をAGCセイミケミカル(株)に変更
2006年 ファミリーフレンドリー企業神奈川労働局長賞受賞
2005年 セイミビジョン2005発表 社是「創造と進化」制定
CMP事業をAGCの半導体関連事業に統合
2004年 ISO14001認証取得
(本社・茅ヶ崎工場、鹿島工場)
半導体銅配線プロセス向けスラリー CLシリーズ製造開始
2003年 ISO9001認証取得
(本社・茅ヶ崎工場、鹿島工場)
リチウムイオン二次電池正極剤(セリオン®L)製造開始
2002年 半導体酸化膜研磨用スラリー CES-300シリーズ製造開始
リチウムイオン二次電池正極剤(セリオン®C)鹿島プラント稼動
2000年 クロロメチルスチレン新プラント稼動(鹿島工場)
神奈川労働局長 努力賞受賞(労働衛生水準の向上)
1998年 ISO9002認証取得
リチウムイオン二次電池正極材料(セリオン®)製造開始(Ni系)
1997年 創立50周年
社是「創造」制定
神奈川工業技術開発大賞受賞(DFS系液晶)
1996年 神奈川県環境保全協議会より「公害防止自主規制優良工場」受賞
1995年 リチウムイオン二次電池正極材料(セリオン®)製造開始(Co系)
ジフルオロスチルベン(DFS)系液晶製造開始
試薬苛性製造開始
関係会社包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司設立
1993年 半導体CMPプロセス向けの研磨剤スラリーの製造開始
1992年 鹿島工場稼働開始
1991年 足立工場を鹿嶋市に移転、足立工場閉鎖
1990年 茨城県鹿嶋市に新工場用地132,000m2取得
1989年 関係会社台湾清美興業股份有限公司設立
1984年 旭硝子(株)の関連会社(株)アスニーと合併、社名をセイミケミカル(株)に変更
1983年 医農薬中間体製造開始
1982年 耐候性塗料(ルミフロン®)製造開始
1981年 東京営業所開設
フッ素系表面処理剤(エスエフコート®)製造開始
1979年 フッ素系界面活性剤(サーフロン®)製造開始
1978年 液晶製造開始
1968年 高機能高分子モノマー(クロロメチルスチレン)製造開始
1964年 機能性ガスの混合充填を開始
1960年 茅ヶ崎市に本社・工場を移転
1958年 硝子研磨剤の製造開始
1951年 東京下丸子に工場移転
1947年 合成香料クマリンの国産化のため旭硝子(株)の全額出資により東京都原宿に清美化学(株)設立

社名の由来

江戸時代末期に「化学」が伝来したとき、化学を意味するオランダ語CHEMIE[シャミ]が「舎密」と日本語に当てられました。この「舎密」が香料を製造する会社にふさわしい「清美」に変化し、「セイミ」となって現在に至っています。

事業所インデックス

本社・茅ヶ崎工場

所在地

〒253-8585
神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎3丁目2番10号

鹿島工場

所在地 〒314-0012
茨城県鹿嶋市大字平井字灘2276番2

包頭天驕清美稀土抛光粉有限公司

所在地 中華人民共和国内蒙古自治区包頭市
創立 1995年12月29日
出資 日本側 AGCセイミケミカル株式会社
中国側 中国北方稀土(集団)高科技股份有限公司
生産品 ガラス研磨剤
(研磨対象物:フォトマスク基板・ガラスハードディスク基板・表示デバイス・光学レンズ・各種ベベリング・板硝子等)